UV 레이저 시스템
LTPS, LLO, LIFT, PLD, LA-ICP-MS 등을 위해 구성된 완벽한 광학 시스템으로 당사 고유의 고에너지 UV 레이저를 최대한 활용하십시오.
- 수직 통합 수명이 긴 레이저, 광학 및 역학으로 위험을 피하고 연중무휴 작동을 즐기십시오.
- 입증된 산업용 툴 고성능 모바일 디스플레이를 만드는 것과 동일한 기술을 사용할 수 있습니다.
- UV 파장 옵션 193, 248, 308 nm 시스템과 맞춤형 157 또는 351 nm 옵션 중에서 선택하십시오.
UV 레이저 공정에 대한 전문성 제공
UV 레이저 및 광학 시스템 분야에서 50년의 경험을 통해 당사는 엑시머 빔의 관리, 형성 및 포커싱하는 문제를 이해하고 있습니다. 수직적 통합 덕분에 당사는 가장 엄격한 표준에 따라 완전한 시스템을 설계, 제조 및 조립합니다.
UVtransfer
MicroLED 디스플레이 제조를 위한 고유한 3-in-1 시스템으로 LLO(레이저 리프트 오프), LIFT(레이저 유도 순방향 전송) 및 수리/트리밍을 모두 높은 처리량으로 가능하게 합니다.
- 3-in-1 가치 - 세 가지 프로세스 모두를 위한 단일 시스템.
- 높은 처리량 - 고에너지 엑시머 레이저는 넓은 필드 크기를 지원합니다.
- 미래를 대비 - 50에서 5 µm까지의 다이 크기를 처리합니다.
LineBeam
LineBeam 엑시머 UV 레이저를 사용하면 최대 수율로 대형 기판 패널에서 저온 폴리실리콘(LTPS) 백플레인을 대량 생산할 수 있습니다.
- 라인 빔 - 최대 1500mm.
- 균질성 - 0.6%(2σ).
- 초점 깊이 - 최대 ±150 µm.
UVblade
UVblade 엑시머 레이저는 라인 길이 및 에너지 밀도에서 높은 광학 효율성과 광범위한 확장성을 갖춘 비용 효율적인 LLO 솔루션을 제공합니다.
- 균질성 - 1.8%
- 초점 깊이 - 최대 ±200 µm.
- 펄스 에너지 - 최대 2000mJ.
엑시머 빔 전달 광학
높은 펄스 에너지, 짧은 UV 파장 및 고출력의 고유한 조합에 최적화된 엑시머 빔 전달을 위한 우수한 광기계 툴 출력.
- 빔 균질화 - <± 5% 플루언스 변동.
- 가변 감쇠 - 정확한 에너지 제어.
- 마스크 이미지 투영 - 4-10X 축소.
VarioLas
VarioLas 엑시머 UV 레이저는 강력한 COMPex 엑시머 레이저를 기반으로 라인 빔 또는 사각 빔 필드 형태의 고품질 UV 미세 가공을 위한 것입니다.
- 에너지 밀도 - 최대 7.5J/cm².
- 다목적 및 조정 가능 - 선 또는 정사각형 프로파일.
- 광학 해상도 - ≥ 5 µm.
GeoLasGC
GeoLasGC 엑시머 UV 시스템은 193nm 펄스, 고성능 편광 현미경 및 레이저 절제 ICP-MS를 위한 HD 카메라 관찰 기능을 결합한 시스템입니다.
- 광학 해상도 - 1 µm.
- 가변 샘플 스폿 - 2 ~ 160 µm.
- 펄스 안정성 - 1%(rms).
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