반도체 장비 – FEOL 포토 공정
최첨단 광학 및 기계 소재와 구성품을 사용하여 처리량과 수율을 극대화하는 장비를 구축합니다.
- 극도의 안정성 열적으로 혁신적인 소재를 기반으로 한 구성품으로 웨이퍼 가공 도구를 구축합니다.
- 내구성이 우수한 소재 다결정 CVD 다이아몬드 창과 같이 수명이 더 긴 광학 장치의 이점을 활용합니다.
- 더 엄격해진 공차 반응 결합 실리콘 카바이드(RB SiC)를 기반으로 한 가장 평평한 웨이퍼 테이블의 이점을 누립니다.
더 높은 해상도
극자외선(EUV) 리소그래피는 최대 5nm 이상의 IC 기능을 제공할 수 있습니다. 하지만 이 해상도에 도달하려면 진동 안정성, 열 크리프, 웨이퍼 테이블 평탄도 측면에서 리소그래피 시스템의 모든 부분에 걸쳐 높은 요구사항을 충족해야 합니다. Coherent는 이러한 요구사항에 맞는 성능을 갖춘 기계 및 광학기계 구성품을 만들기 위해 하이브리드 세라믹 및 실리콘 카바이드를 포함한 혁신적 소재를 최초로 사용하고 있습니다. 또한 Coherent에서는 EUV 방사선의 고유한 요구사항을 처리할 수 있는 광학 장치를 제공합니다.
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