イオンインプラント
イオンインプラントファウンドリサービス
当社は、お客様のイオンインプラントのニーズを満たすフルサービスのパートナーシップを提供しています。どのようなボリューム、どのような用途にも確実に対応し、需要の急増にも応じられる能力を備えています。
Coherentの世界クラスのイオンインプラントファウンドリは、300 mmウェハの生産量から、より小さなウェハサイズやチップの研究開発、化合物半導体基板への加熱注入まで、あらゆる形態のインプラント要件に対応できます。
主な機能
比類のない体験 Coherentは、業界で最も経験豊富なイオンインプラントアプリケーションチームを活用して、お客様の成功を最適化するための最も迅速でコスト効率の高い手法を以下の点に関して提供しています。
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信頼できるパートナー インプラントのパートナーとして、以下の目的でCoherentをご利用ください。
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Ion Implantation For Semiconductor Devices
Ion implantation is a technique where ions are accelerated to high speeds and then implanted into a semiconductor compound. This process allows precise control over electrical carrier levels and distributions allowing to tailor the electrical properties of the material with high accuracy. Coherent is the world's largest ion implantation foundry and offers various services to meet our clients' needs.
