Ionenimplantation

Ionenimplantation Foundry-Dienstleistungen

Verlassen Sie sich auf Coherent als Full-Service-Partner, um Ihre Anforderungen der Ionenimplantation zu erfüllen. Wir bieten zuverlässige Unterstützung für jedes Volumen, jede Anwendung und ermöglichen es, Nachfragespitzen zu bewältigen.

Die erstklassigen Ionenimplantation-Foundries von Coherent können alle Arten von Implantationsanforderungen erfüllen: von Produktionsmengen von 300-mm-Wafern bis hin zu Forschung und Entwicklung für kleinere Wafergrößen und Chips sowie beheizte Implantationen auf Verbindungs-Halbleitersubstraten.

Schlüsselfähigkeiten

Unübertroffene Erfahrung

Mit seinem hocherfahrenen Anwendungsteam in der Branche bietet Coherent die schnellsten und kostengünstigsten Methoden für die Ionenimplantation, um den Kundenerfolg zu optimieren:

  • Silizium- und Verbindungs-Halbleitersubstrate
  • Beheizte und Raumtemperatur-Implantate
  • Forschung und Entwicklung
  • Modellierung von Implantaten und Prozessanpassung
  • Kleine Wafergrößen

Zuverlässiger Partner

Mit Coherent als Ihr Partner für Implantate können Sie:

  • von expandierenden oder sich verändernden Märkten profitieren
  • Ionenimplantationen nach ungeplanten Systemausfällen wiederherstellen
  • einige bzw. alle Prozessschritte bei der Ionenimplantation auslagern
  • Unterstützung innerhalb von 48 Stunden erhalten

Umfangreiche Materialien

  • Silizium
  • GaAs/InP
  • SiC
  • GaN
  • Diamant
  • LiNbO3/LiTaO3
  • InSb
  • ZnSe
  • SiO2/Si

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Video Spotlight

Ion Implantation For Semiconductor Devices

Ion implantation is a technique where ions are accelerated to high speeds and then implanted into a semiconductor compound. This process allows precise control over electrical carrier levels and distributions allowing to tailor the electrical properties of the material with high accuracy. Coherent is the world's largest ion implantation foundry and offers various services to meet our clients' needs.