离子注入
离子注入制造服务
依靠我们的全方位服务合作伙伴关系来满足您的离子注入需求。我们可以可靠地支持任何批量的生产、任何应用程序并具备满足高峰期需求的能力。
从 300 毫米晶圆量产到更小晶圆尺寸和芯片的研发，Coherent 高意一流的离子注入制造工厂可以满足各种形式的注入要求，并且能够在化合物半导体衬底上进行加热注入。
关键能力
出色的体验 Coherent 高意借助业内经验丰富的离子注入应用团队来提供快速且具成本效益的方法，从而帮助客户在以下方面取得成功：
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值得信赖的合作伙伴 将 Coherent 高意作为您的注入合作伙伴可以带来以下好处：
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Ion Implantation For Semiconductor Devices
Ion implantation is a technique where ions are accelerated to high speeds and then implanted into a semiconductor compound. This process allows precise control over electrical carrier levels and distributions allowing to tailor the electrical properties of the material with high accuracy. Coherent is the world's largest ion implantation foundry and offers various services to meet our clients' needs.
