이온 주입

이온 레이저 주입 파운드리 서비스

Ion Implantation Foundry Services

종합 이온 레이저 주입 서비스는 Coherent에게 맡기세요. 규모와 분야에 관계 없이 안정적으로 지원할 수 있으며 수요 급증에 대응할 수 있는 용량을 제공합니다.

세계적 수준의 Coherent 이온 주입 파운드리는 300mm 웨이퍼 생산량부터 더 작은 크기의 웨이퍼와 칩에 대한 R&D, 화합물 반도체 기판의 가열 주입에 이르기까지 모든 형태의 주입 요구사항을 충족할 수 있습니다.

주요 기능

데이터 시트

비교할 수 없는 경험

Coherent는 업계에서 가장 경험이 풍부한 이온 임플란트 애플리케이션 팀을 활용하여 고객의 성공을 최적화할 수 있는 가장 빠르고 비용 효율적인 방법을 제공합니다.

  • 실리콘 및 화합물 반도체 기판
  • 가열 및 상온 임플란트
  • 연구 및 개발
  • 임플란트 모델링 및 공정 매칭
  • 소형 웨이퍼

믿을 수 있는 파트너

Coherent를 임플란트 파트너로 이용하는 방법:

  • 시장 확장 또는 변화의 기회 활용
  • 예기치 않은 이온 임플란트 시스템 장애 복구
  • 이온 임플란트 공정 단계의 일부 또는 전체 아웃소싱
  • 48시간의 처리 시간 지원

종합적인 자료

  • 실리콘
  • GaAs/InP
  • SiC
  • GaN
  • Diamond 시리즈
  • LiNbO3/LiTaO3
  • InSb
  • ZnSe
  • SiO2/Si

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Ion Implantation For Semiconductor Devices

Ion implantation is a technique where ions are accelerated to high speeds and then implanted into a semiconductor compound. This process allows precise control over electrical carrier levels and distributions allowing to tailor the electrical properties of the material with high accuracy. Coherent is the world's largest ion implantation foundry and offers various services to meet our clients' needs.